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細胞磨—攪拌式研磨機

細胞磨—攪拌式研磨機

WRMJ

集重力和流化技術(shù)于一體,多級合金攪拌棒結(jié)構(gòu),水冷卻裝置,降低漿料粘度提高研磨效率,占地面積小,立式安裝,下進料,上出料或上進料下出料。

固含量:50-70%漿產(chǎn)量:1.8~100噸/H磨耗:1.7~4.9元/T
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產(chǎn)品介紹

集重力和流化技術(shù)于一體,多級合金攪拌棒結(jié)構(gòu),水冷卻裝置,降低漿料粘度提高研磨效率,占地面積小,立式安裝,下進料,上出料或上進料下出料。安裝維護快捷,高效率,低能耗,無三廢排放,調(diào)整進料可獲得不同規(guī)格產(chǎn)品。

細胞磨—攪拌式研磨機是一種通過機械攪拌驅(qū)動研磨介質(zhì)(如陶瓷珠、玻璃珠或合金球)對物料進行高效粉碎與分散的濕法研磨設(shè)備。其核心結(jié)構(gòu)由高速旋轉(zhuǎn)的攪拌器、耐磨研磨腔及動態(tài)分離系統(tǒng)組成,利用介質(zhì)與物料間的劇烈碰撞、剪切作用實現(xiàn)超細研磨,出料粒度可達亞微米至納米級(0.1-50μm)。該設(shè)備適用于高硬度、高純度材料的連續(xù)化生產(chǎn),兼具低能耗、高精度與工藝穩(wěn)定性,廣泛應(yīng)用于非金屬礦粉、新能源材料及精細化工領(lǐng)域。

細胞磨—攪拌式研磨機

細胞磨—攪拌式研磨機

 

 

產(chǎn)品用途

金礦,鐵礦,鋯英砂,黃鐵礦,二氧化錳,硅酸鋯,氧化鋯,氧化鐵紅,錳鐵合金,鐵氧體,鉛鋅礦石,金屬氧化物,云母,滑石,石墨,稀土,磷酸鐵鋰,二氧化硅,氧化鋁,氫氧化鋁,氫氧化鎂,水鎂石,膨潤土,高嶺土,硫磺,碳酸鈣,水煤漿,重金石,肥料,等金屬礦和非金屬礦粉濕法超細研磨。進料細度要求45μm—1mm。

  1. 非金屬礦深加工:碳酸鈣、云母、滑石、高嶺土等礦物的超細研磨,提升產(chǎn)品白度與附加值。

  2. 新能源材料制備:鋰電池正負極材料(如鈷酸鋰、石墨烯)、光伏材料(如硅粉)的納米級分散與均質(zhì)化。

  3. 化工與涂料:顏料、染料、油墨的濕法研磨,確保顏色均勻性與分散穩(wěn)定性。

  4. 電子與陶瓷工業(yè):電子陶瓷粉末、熒光粉的精細加工,滿足高精度成型需求。

  5. 生物醫(yī)藥:藥物納米粒、脂質(zhì)體的制備,提高藥物溶解性與生物利用度。

產(chǎn)品特點

全自動連續(xù)化生產(chǎn),效率高,能耗低,0.5-45μm細度可調(diào)控,粒徑分布窄,帶載啟動容易,工藝路徑短,目前國內(nèi)最大型的成熟設(shè)備。

  1. 高效研磨性能:攪拌器線速度可達10-20m/s,介質(zhì)填充率高(60-90%),單位能耗低(0.5-5kW·h/t),處理能力達0.1-10噸/小時。

  2. 粒度精準可控:通過調(diào)節(jié)介質(zhì)尺寸、轉(zhuǎn)速及停留時間,實現(xiàn)出料細度靈活調(diào)整,D50粒度分布窄(≤±0.5μm)。

  3. 全密閉結(jié)構(gòu):防泄漏設(shè)計結(jié)合惰性氣體保護,避免物料氧化或污染,適用于易燃易爆或高活性材料。

  4. 模塊化配置:可選配溫控系統(tǒng)(-20℃至150℃)、在線粒度監(jiān)測裝置及自動化供料/排料系統(tǒng),適配不同工藝需求。

  5. 長壽命設(shè)計:攪拌器與內(nèi)襯采用碳化硅、氧化鋯等高耐磨材質(zhì),連續(xù)運行壽命超8000小時,維護成本低。

技術(shù)參數(shù)

設(shè)備型號

設(shè)備功率

2μm 細度

固含量%

漿產(chǎn)量/噸/H

電耗KW/T/H

磨耗/元/T

WRMJ1500

160KW

D60-D98

50-70

1.8-3

37-124

1.7-4.9

WRMJ4000

250KW

D60-D98

50-70

2.6-5.8

30-134

1.1-5.1

WRMJ6000

355KW

D60-D98

50-70

4.5-9.5

  26-165

 0.5-2.4

WRMJ80000

1200KW

D30-D50

50-70

20.8-60.5

21-66

0.7-3.1

WRMJ100000

1750KW

D30-D50

50-70

55.5-100

17-58

0.5-2.7

工作原理

  1. 動力輸入:電機通過聯(lián)軸器驅(qū)動攪拌器高速旋轉(zhuǎn),帶動研磨腔內(nèi)介質(zhì)形成渦流運動。

  2. 研磨作用:介質(zhì)與物料在強剪切力、沖擊力及擠壓力下反復碰撞,顆粒被逐級破碎至目標細度。

  3. 動態(tài)分離:研磨后的漿料通過間隙式篩網(wǎng)或離心分離系統(tǒng)排出,粗顆粒返回研磨區(qū)繼續(xù)處理,確保成品均勻性。

  4. 溫度控制:內(nèi)置冷卻夾套或外循環(huán)冷卻器實時調(diào)控溫度,防止熱敏感材料變性或介質(zhì)過熱損耗。

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